193nm紫外波前傳感器助力半導體及光刻機行業發展

瀏覽次數：313　發布日期：2024-12-9　來源：本站　僅供參考，謝絕轉載，否則責任自負

193nm紫外波前傳感器（512x512高相位分辨率）助力半導體/光刻機行業發展！

摘要：

昊量光電聯合法國Phasics公司推出全新一代193nm高分辨率（512x512）波前分析儀!該波前傳感器采用Phasics公司技術-四波橫向剪切干涉技術，可以工作在190-400nm波段，消色差，具有2nm RMS的相位檢測靈敏度，能夠精確測量紫外光波前的細微變化。SID4-UV-HR 紫外波前分析儀非常適合紫外光學元件表征（DUV光刻、半導體等領域）和表面檢測（透鏡和晶圓等）。

193nm 紫外波前傳感器（512x512 高相位分辨率）在半導體/光刻機行業中具有重要作用。該傳感器具有高分辨率，消色差，對震動不敏感，高靈敏度（2nm RMS）等特點，可以為半導體制造和光刻機技術提供關鍵波像差數據，有助于提高生產效率和產品質量，推動行業的發展。

在光刻機行業中，高精度的波前傳感器是關鍵組件之一。它可以實時監測和校正光刻機光學系統中的誤差，從而提高光刻質量和成品率。這款新的紫外波前傳感器的推出，將進一步提升光刻機的性能，加速半導體行業的發展。

波前傳感器原理介紹：

193nm波前分析儀采用四波橫向剪切干涉技術，該技術是一種用于測量激光波前、光刻物鏡波像差，光學元器件面型表征的技術，其原理是測試光波經過兩個正交（0、π）的相位光柵，獲得四個干涉光束，四束光兩兩干涉，通過測量這四個干涉光束的干涉后的光強分布來計算光波的相位分布。該技術采用0和π的二維光柵作為分光器件，利用該二維光柵將測試光分為四束，并使它們發生橫向剪切干涉，得到的單幅載頻干涉圖中包含兩正交方向的差分波前信息，通過特定的分析和定量計算（反傅里葉變換）可實現瞬態波前檢測。

波前傳感器主要功能介紹：

一、光學和光學系統計量

1.1 光刻物鏡和光學鏡頭計量

Phasics的四波橫向剪切干涉測量（QWLSI）波前傳感技術的獨特功能允許測量高數值孔徑光束(Up to NA:0.95)，而無需任何中繼光學器件。這一獨特的優勢簡化了測量設置。在單次拍攝中，同時測量波前誤差（WFE）和調制傳遞函數（MTF）。物鏡、子組件和最終組件的鑒定是完整且易于實施的。事實上，SID4波前傳感器只需放置在聚焦后幾毫米處的發散光束中。測量后，借助 Phasics 軟件模塊 Design Pro，波前測量可以與理論 Zemax 模擬進行比較。

1.2 復雜光學系統對準/計量

參考球體或顯微鏡物鏡可以很容易地放置或擰到R-Cube模塊的出口處。在此配置中，點源創建一個發散光束，該發散光束注入被測系統中。實時波前顯示允許監控和優化光學對準。

1.3面型檢測

當集成到反射裝置中時，Phasics SID4波前傳感器可以執行面型檢測。Kaleo 軟件輸出3D 曲面圖和凸面或凹面（如透鏡、鏡子或模具）的曲率半徑。ISO 10110 標準定義的所有表面質量參數，如表面不規則度、粗糙度和波紋度，都是從該測量中計算得出的。也可以在任何方向上提取表面輪廓，并且可以將結果與理論表面進行比較。

二、激光測試和自適應光學控制

Phasics的波前傳感器以其無與倫比的高分辨率（512x512）和易用性而著稱。一臺儀器可以涵蓋廣泛的用途：光束測試、光學系統對準、自適應光學和等離子體表征。Phasics SID4波前傳感器為超快和超強激光研究實驗室和激光制造環境中的研發工程師、生產團隊和研究人員提供了全面的多功能性。使用自適應光學器件對光束進行鑒定和校正可以在從紫外到長波比橡膠的任何類型的激光系統上進行：連續高功率、飛秒太瓦和拍瓦鏈、固態激光器、OPCPA、氣體激光器、可調諧激光器等。

2.1 激光檢測

SID4 波前傳感器與其光束分析軟件相結合，可對激光進行完整的診斷：波前像差、強度分布、激光束質量參數（M2、發散角、束腰等）。Phasics 的波前分析儀可以定位在光學裝置的任何點，無論光束是準直的還是發散的。Phasics SID4波前傳感器適用于從紫外（190nm）到遠紅外(14um)的任何連續或脈沖激光。

2.2 自適應光學

Phasics波前分析儀可與任何可變形光學器件兼容：如壓電可變形鏡、機械可變形鏡、電磁可變形鏡和MEMS可變形鏡以及空間光調制器和自適應透鏡。為了校正超快和超強激光，Phasics自適應光學環路通過波前像差補償實現精細的校正。OASys 自適應光學環路結合了 Phasics 獨特的高分辨率 SID4 波前傳感器和適合項目要求的可變形反射鏡設備，OASys可實現閉環控制。