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離子研磨儀在半導體失效分析中的應用案例

瀏覽次數:1235 發布日期:2022-3-9  來源:本站 僅供參考,謝絕轉載,否則責任自負

失效分析是對于電子元件失效原因進行診斷,在進行失效分析的過程中,往往需要借助儀器設備,以及化學類手段進行分析,以確認失效模式,判斷失效原因,研究失效機理,提出改善預防措施。其方法可以分為有損分析,無損分析,物理分析,化學分析等。其中在進行微觀形貌檢測的時候,尤其是需要觀察斷面或者內部結構時,需要用到離子研磨儀+掃描電鏡結合法,來進行失效分析研究。

離子研磨儀目前是普遍使用的制樣工具,可以進行不同角度的剖面切削以及表面的拋光和清潔處理,以制備出適合半導體故障分析的 SEM 用樣品。

離子研磨儀的基本原理

案例分享 1:晶片失效分析思路和方法

1. 優先判斷失效的位置

2. 鎖定失效分析位置后,決定進行離子研磨儀進行切割

3. 離子研磨儀中進行切割

4. 切割后的樣品,放大觀察

5. 放大后發現故障位置左右不對稱

6. 進一步放大后,發現故障位置擠壓變形,開裂,是造成失效的主要原因

7. 變形開裂位置(放大倍數:20,000x)

8. 變形開裂位置(放大倍數:40,000x)

案例分享 2:IC 封裝測試失效分析

  

                 1. 對失效位置進行切割                                2. 離子研磨儀中進行切割

3. 位置1. 放大后發現此處未連接。放大倍數:30,000x

4. 位置2. 放大后發現此處開裂。放大倍數:50,000x
 

案例分享 3:PCB / PCBA 失效分析

TECNOORG LINDA SC-2100

· 適用于離子束剖面切削、表面拋光

· 可預設不同切削角度制備橫截面樣品

· 可用于樣品拋光或最終階段的細拋和清潔

· 超高能量離子槍用于快速拋光

· 低能量離子槍適用后處理的表面無損細拋和清潔

· 操作簡單,嵌入式計算機系統,全自動設定操作

· 冷卻系統標準化,應用于多種類樣本

· 高分辨率彩色相機實現實時監控拋光過程

發布者:復納科學儀器(上海)有限公司
聯系電話:400-857-8882
E-mail:cici.yang@phenom-china.com

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